RNW Pleťová maska ​​pro problematickou pleť x 27g

Výhody pleťové masky RNW pro problematickou pleť:

• Ideální maska ​​pro problematickou pleť; lze ji používat denně;
• Rychle zklidňuje citlivou pokožku a osvěžuje ji;
• Obsahuje olej z čajovníku, který pomáhá zklidnit citlivou a zarudlou pokožku.

Složení RNW ubrouskové masky pro problematickou pleť :

Voda, methylpropandiol, propandiol, glycerin, alkohol, betain, butylenglykol, polyglyceryl-6 kaprylát, polyglyceryl-4 kaprát, alantoin, panthenol, kopolymer hydroxyethylakrylátu/akryloyldimethyltaurátu sodného, ​​xanthanová guma, kopolymer akryloyldimethyltaurátu amonného/VP, hydroxyethylcelulóza, glycyrrhizát draselný, extrakt z listů pupečníku asijského, ethylhexylglycerin, 1,2-hexandiol, sorbitan isostearát, trisodná sůl EDTA, olej z cypřiše obecného (Chamaecyparis Obtusa), hyaluronát sodný, kaprylový/kaprinový triglycerid, extrakt z kůry vrby bílé (Salix Alba), olej z listů čajovníku (Melaleuca Alternifolia).

Jak používat RNW otírací masku pro problematickou pleť :

Naneste na suchou, čistou pleť (po umytí a použití tonika) a nechte působit 10-15 minut, poté sejměte a vmasírujte do pokožky zbývající esencí.
Lze jej užívat i během těhotenství/kojení.
OBLAST POUŽITÍ: Obličej.
TYP PLETI: Mastná, problematická pleť.