Μάσκα RNW σε φύλλα για προβληματικό δέρμα x 27g

Οφέλη της μάσκας RNW Sheet Mask για προβληματικό δέρμα:

• Η ιδανική μάσκα για προβληματικό δέρμα. Μπορεί να χρησιμοποιηθεί καθημερινά.
• Καταπραΰνει γρήγορα το ευαίσθητο δέρμα και το αναζωογονεί.
• Περιέχει έλαιο τεϊόδεντρου, το οποίο καταπραΰνει το ευαίσθητο και κόκκινο δέρμα.

Συστατικά μάσκας καθαρισμού RNW για προβληματικό δέρμα :

Νερό, Μεθυλοπροπανοδιόλη, Προπανοδιόλη, Γλυκερίνη, Αλκοόλη, Βηταΐνη, Βουτυλενογλυκόλη, Πολυγλυκερυλ-6 Καπρυλικό, Πολυγλυκερυλ-4 Καπρικό, Αλλαντοΐνη, Πανθενόλη, Συμπολυμερές Υδροξυαιθυλακρυλικού/Ακρυλοϋλδιμεθυλταυρικού Νατρίου, Ξανθανικό κόμμι, Συμπολυμερές Ακρυλοϋλδιμεθυλταυρικού Αμμωνίου/VP, Υδροξυαιθυλοκυτταρίνη, Γλυκυρριζικό Δικάλιο, Εκχύλισμα Φύλλων Centella Asiatica, Αιθυλεξυλογλυκερίνη, 1,2-Εξανοδιόλη, Ισοστεατικό Σορβιτάν, Τρινάτριο EDTA, Έλαιο Chamaecyparis Obtusa, Υαλουρονικό Νάτριο, Τριγλυκερίδιο Καπρυλικού/Καπρικού, Εκχύλισμα Φλοιού Ιτιάς (Salix Alba), Έλαιο Φύλλων Tea Tree (Melaleuca Alternifolia).

Πώς να χρησιμοποιήσετε τη μάσκα καθαρισμού RNW Wipe για προβληματικό δέρμα :

Εφαρμόστε σε στεγνό, καθαρό δέρμα (αφού πλύνετε και χρησιμοποιήσετε τονωτικό) και αφήστε το για 10-15 λεπτά, στη συνέχεια αφαιρέστε το και κάντε μασάζ στο δέρμα με το υπόλοιπο άρωμα.
Μπορεί επίσης να χρησιμοποιηθεί κατά τη διάρκεια της εγκυμοσύνης/θηλασμού.
ΠΕΡΙΟΧΗ ΕΦΑΡΜΟΓΗΣ: Πρόσωπο.
ΤΥΠΟΣ ΔΕΡΜΑΤΟΣ: Λιπαρό, προβληματικό δέρμα.